nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型、打印精度高等突出优势,被认为是目前有前景的微纳加工技术之一。
: 光学精度高达25微米;
微尺度打印能力;
优良的光源稳定性。
低层厚:10-50微米的打印层厚;
可支持12款打印材料;
打印材料
通用型:硬性光敏树脂;
个性化:405 nm固化波段的光敏树脂材料 ,支持韧性树脂、PEGDA、树脂、生物医用树脂、柔性树脂、水凝胶、透明树脂、低收缩树脂、二氧化硅掺杂树脂、二氧化错掺杂树脂等其他功能树脂等。
系统特点
的供料系统和涂层技术
具有微尺度多材料的打印能力
光学监控系统,自动对焦功能
配置光学平台,提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件,包括抽真空及紫外后固化
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