氧化铝颗粒，氧化铝颗粒生产厂家，蒸发材料溅射基地Al2O3颗粒

　　氧化铝粒，三氧化二铝颗粒 三氧化二铝纯度99.99%，高纯铝颗粒，高纯铝片，AAO专用铝箔片

　　化学符号：Al2O3

　　外 观:透明

　　规格：1-3mm

　　纯度：4N

　　密 度：4g/cm3

　　熔 点：2045℃

　　沸 点：2980℃

　　蒸发温度：1800℃

　　蒸发方式：电子束

　　透明范围/nm：200-7000

　　折射率n（波长/nm）：1.59(600)/1.56(1600)

　　基片温度为300℃时，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59；

　　基片温度为40℃时， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56；

　　蒸发源材料:W 、Mo

　　溶 解 于：纯酸、碱

　　薄膜的机械和化学性质：形成光滑的硬膜

　　性 能：高纯氧化铝具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化、绝缘性好和表面积大等特点；不溶于水，微溶于强酸和强碱溶液，并能被氢氟酸和硫酸氢钾浸蚀；

　　高纯超细氧化铝的优点：纯度高、粒径小、密度大、高温强度大、耐蚀性和易烧结；

　　应 用：增透膜，多层膜，防反膜，眼镜膜，保护膜

　　用 途：广泛应用于生物陶瓷、精细陶瓷、化工催化剂、稀土三基色荧光粉、集成电路芯片、航空光源器件、湿敏性传感器及红外吸收材料；

　　Al2O3膜的主要性能：

　　密 度/g？cm-3:3.1-4.0

　　电 阻 率/Ω？cm：1012-1013

　　折 射 率：1.72-1.76

　　禁带宽度eV：7

　　介电常数：7.5-9.6

　　产生龟裂厚度/μm:0.4

　　介电强度/V？cm-1:1×106-7×106

　　表面负电荷密度：3×1011-1012

　　红外吸收峰/μm:14-16

　　Al2O3-Si界面密度/（cm2？eV）-1: 1010-1011

　　Al2O3分析报告:

　　Mn Cr Pb Ni V Nb

　　0.003 0.001 0.001 0.001 0.001 0.0001

　　Co Ta

　　0.001 0.001